對於具有EMF域模型的基於GEF的RCP應用程序，是否可以使用演示模型模式？

Question

我正在使用基於EMF的第三方域模型以及GEF編輯器進行編輯的eclipse RCP應用程序。

GEF uses the MVC pattern，如果我不必在編輯器視圖中使用特定的佈局繪製模型圖，那將是公平的。我使用的領域模型不包含任何視覺信息（這本身就是一個好主意），但我希望能夠在他們的EditPart s中爲座標Figure指定座標。這將使我更容易計算佈局中圖形的位置。

現在我偶然發現了Martin Fowler的Presentation Model Pattern，這看起來就像我正在尋找的東西。我還發現了一個 - old-ish - tutorial on RCP UI testing（僅限德語​​），它在eclipse RCP上下文中使用這種模式。

現在我想知道：是否通常可以在GEF上下文中使用PM，看到GEF明確使用MVC？ MVVM是另一種選擇嗎？

請注意，由於多種原因，我無法使用GMF。

非常感謝！

Answer 1

是的，這絕對有可能，你有兩種選擇。

首先 - 實現您自己的圖形符號模型。我會用你喜歡appreach提示：

modelElement : ModelElement 1..1 
x   : int   1..1 
y   : int   1..1 

然後在EditingDomain裝載兩個模型（EMF將解決你跨文檔引用），創建所有缺失的圖形符號元素等。

另一種選擇是使用GMF或Graphiti。他們有你正在尋找的模型，這將大大簡化你的生活。以學習另一個怪物框架爲代價（在GMF的情況下）。 Graphiti很容易（相對於GEF/GMF），但IMO不那麼靈活。 GMF，順便說一句，會給你一個'免費的'TransactionalEditingDomain，它將處理所有的命令，撤消和重做。所以，正如在你的評論previous question，我會建議你使用GMF。

哦，對不起，我沒有注意到你寫的關於GMF的內容。

然後，第二個選項是讓圖形模型從域模型繼承，然後將GEF編輯器編碼爲此模型。